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SMIC業績悪化、米中技術戦争の影響は?

半導体が私たちの日常生活に欠かせない技術であることは周知の事実です。

しかし、その背後で繰り広げられている経済戦争の現状はどんなことが起きているのでしょうか?

この記事では、中国の半導体大手SMICの2024年第一四半期の決算報告を取り上げ、その数字が示す背景に迫ります。

利益が大幅に減少した原因を技術的、経済的、地政学的観点から市場に与える影響を分析します。

最終的に、この記事が半導体産業理解する上での手がかりを得る事が本記事の目的です。

 

1. 今回のニュース

1.1. 5W1H要約

<Who>

・中芯国際集成電路製造(SMIC)…中国の半導体受託生産最大手

<When>

・2024年1~3月期

<Where>

・中国 (メイン)

・米国 (サブ)

<What>

・純利益が前年同期比69%減の約110億円

・売上高は20%増の17億ドル

<Why>

・新工場建設による生産能力の拡大で製造コストが上昇

・研究開発費用の増加

<How>

・自動車用など向けは7%にとどまり、スマートフォン向けが31%で最多

・中国市場向けが82%まで高まる

 

1.2. 要約

中国の半導体受託生産最大手、中芯国際集成電路製造 (SMIC) は2024年1~3月期の決算で、純利益が前年同期比69%減の7179万ドル (約110億円) と大幅に減少。

これは新工場の建設による生産能力の拡大に伴う製造コストの上昇、さらに研究開発費用の増加が原因である。

売上高は20%増の17億ドルを記録し、主にスマートフォン向けが増加したことが影響している。

地域別では中国市場向けが82%まで高まった一方で、米中対立の影響で米国向けは15%に低下。

米国の規制強化と技術的な制約がさらなる課題を生んでいる。

 

www.nikkei.com

 

2. 海外の反応

2.1. アメリカ合衆国

技術的制約と地政学的緊張がSMICの業績に及ぼす影響に焦点を当てられています。

・技術的制約

SMICは、先端技術であるEUV (極端紫外線) 露光装置を利用できないため、7nmおよび5nmプロセス技術の開発において問題が発生しています。

これは製造コストの増加と製品の品質問題につながっており、結果として利益率が低下しています​ 。

地政学的緊張

アメリカによる輸出規制がSMICのビジネスに影響を与えており、これによりSMICは自国 (中国) の市場にさらに依存する状況に追い込まれています。

このような規制はSMICが高度な半導体技術を使用することを困難にしており、中国経済の低迷も合わせて需要減少につながっています​。

 

China's chipmaking champion struggles —SMIC fab warns that it could see declined profits due to increasingly tense economy and geopolitics | Tom's Hardware

 

2.2. 台湾

主に地域競争と技術進化の観点から報道されています。

特に、台湾の代表的な半導体メーカーであるTSMCとの比較を通して、SMICの技術的な遅れがどのように地域市場に影響を与えているかについて言及されています。

SMICが直面している主な課題には、高度な製造技術の欠如、特にEUV (極端紫外線) 露光技術へのアクセス制限があり、これが全体的な競争力に影響を与えています。

また、地政学的な緊張が業界の動向にどのように作用しているかについても触れられており、これがSMICの戦略と市場でのポジショニングに重要な役割を果たしていることが強調されております。

 

www.techpowerup.com

 

2.3. オランダ

ASMLとの技術的な競争と半導体製造設備に対する影響に注目が集まっています。

ASMLは、オランダが誇る半導体製造装置のリーダー企業です。

特に、EUV (極端紫外線) リソグラフィ技術は半導体の微細化に不可欠であり、その供給制限がSMICの技術的な発展にどう影響するかが注目されています。

また、ASMLの技術がグローバルな半導体供給チェーンにおいていかに重要な役割を担っているかが強調されております。

 

www.asml.com

 

3. ニュースを深堀り

3.1. 科学技術

Q.

SMICの技術的な遅れ、特に高度なリソグラフィ技術 (EUV) へのアクセス制限がどのように同社の製品と市場競争力に影響を与えているのか?

A.

SMICの技術的な遅れ、特に高度なリソグラフィ技術であるEUV (極端紫外線) へのアクセス制限は、同社が最先端のチップを製造する能力に大きな制約を与えています。

この技術的な遅れは、市場競争力にも影響を及ぼし、SMICは他の先進的な半導体製造業者と比較して競争力を欠いております。

例えば、中国は先進的なASML製のリソグラフィ機器、特にEUV技術へのアクセスが制限されているため、自国での技術開発に力を入れ、DUV (深紫外線) 技術を用いた代替手法を模索しています。

これにより、より微細な5ナノメートル級のチップ製造が目指されていますが、EUV機器に比べて技術的な限界があるため、最先端の3ナノメートルやそれ以下のプロセスにはまだ及ばない状況です​。

このような状況は、SMICだけでなく、中国半導体業界全体の技術的自立を目指す動きに火をつけており、国際的なサプライチェーンの再編にも影響を与えています。

 

www.scmp.com

thechinaproject.com

 

 

3.2. 地政学

Q.

米中対立により、技術移転、輸出規制、市場アクセスといった問題がSMICにどのように影響を与えているのか?

A.

米国の輸出規制は、中国が最先端の半導体技術や製造装置を入手することを困難にしています。

これにより、SMICは他のメーカーとの技術的なギャップを埋めるために、国内での技術開発に更に力を入れざるを得なくなっています。

また輸出規制は、中国だけでなく、アメリカやオランダなどの同盟国の企業にもビジネスリスクを増大させ、国際的な供給網の再編成を促しています​。

 

www.atlanticcouncil.org

www.csis.org

 

4. 更なる深堀りの為に

今回の記事のテーマに関する理解を深める為に、参考までに書籍を紹介させていただきます。

 

 

 

以上です。